郑州成越科学仪器有限公司
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CY-PECVD-450化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术，能够利用高能量等离子体促进反应过程，有效提升反应速度，降低反应温度。适用于在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜，成膜质量好，针孔较少，不易龟裂，适用于制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件，可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。
| 产品型号 | CY-PECVD-450T-SS |
| 真空腔体 | 前开门式，φ300mm X 300mm 不锈钢材质 观察窗：φ100mm 带挡板 |
| 真空泵组 | 前级泵：旋片泵 抽速1.1L/s 次级泵：涡轮分子泵 抽速600L/s |
| 极限真空度 | 10-6Pa 三十分钟内可达到 10-4Pa |
| 沉积真空 | 0.133~133Pa，可根据工艺调整 |
| 射频电源 | 13.56MHz，500W，自动匹配 |
| 流量控制 | 质量流量计，默认 Ar气 0~200sccm |
| 整机尺寸 | 1100mm x 800mm x1100mm |
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