PECVD主要是对半导体材料硅的溅射。
PECVD系统应用：
1. 广泛应用于MEMS、封装、功率半导体、LED制造、RF集成电路等领域
2. 放射方式对称工艺气体显著提高晶圆片内均匀性（WIW）
3. 多达10路气体管路，可选on-board液体输送系统
3. 多达10路气体管路，可选on-board液体输送系统
4. 复合频率等离子体能力调节应力
5. 有源冷却平台应用在关键，低温[小于175°C]封装工艺
6. 可选敏感的de-gassing衬底材料增加单/多晶圆预加热腔室
尊敬的客户：
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