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热处理就一张图,8句话
图解金属热处理一分为二材料不同、设备不同、工艺参数不同,热处理后的组织和质量也不同即使材料牌号、设备、工艺参数都相同,由于化学成分含量上下限、热处理温度上下限、保温时间上下限的不同,热处理后的组织和质...
2026/7/75 -
涨知识|做渐变色都要用到哪些设备?
渐变色效果实现的工艺多种多样,主流的有PVD镀膜、印刷、喷涂等,2018渐变色趋势火爆,市场的繁荣必然推动供应链的发展,据了解,渐变色产业链中的设备目前都卖的不错,那么做渐变色都要用到哪些设备?一、真...
2026/7/715 -
晶体生长方法
单晶和多晶单晶体:整块晶体由一颗晶粒组成,或是能用一个空间点阵图形贯穿整个晶体。单晶体是原子排列规律相同,晶格位相一致的晶体。例如:单晶硅。多晶体:整块晶体由大量晶粒组成,或是不能用一个空间点阵图形贯...
2026/7/77 -
极耳焊接制备(超声波焊接&激光焊接)
电池极耳电池是分正负极的,极耳就是从电芯中将正负极引出来的金属导电体,通俗的说电池正负两极的耳朵是在进行充放电时的接触点。这个接触点并不是我们看到的电池外表的那个铜片,而是电池内部的一种连接。锂电池正...
2026/7/71 -
碳纳米管的制备方法
碳纳米管制备的催化剂制备碳纳米管的过程中如果不使用催化剂,产物就只有无定形碳,只有加入催化剂后生成物才含有大量的单、多壁碳纳米管。常见的催化剂种类主要是金属单质和化合物。过渡金属Fe、Co、Ni、Mo...
2026/7/72 -
真空镀膜知识知多少—颜色
《真空镀膜知识知多少》中经常与大家见面,给大家科普真空镀膜的知识。原理真空镀膜的运作原理:物理/气相沉积(PhysicalVaporDeposition,PVD)技术表示在真空条件下,采用物理方法,将...
2026/7/716 -
什么是溅射镀、蒸发镀和离子镀
溅射镀1.定义用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面,沉积在基片上。2.原理通常将欲沉积的材料制成板材──靶,固定在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上,距靶几厘米。系统抽至高真空后...
2026/7/74 -
镀膜技术十个常见问题解答
一、镀膜技术可区分为那几类?可区分为:(1)真空蒸镀(2)电镀(3)化学反应(4)热处理(5)物理或机械处理二、蒸镀的加热方式包括那几种?各具有何特点?加热方式分为:(1)电阻加热(2)感应加热(3)...
2026/7/718 -
真空镀膜技术离子镀
现代航空工业中使用的镀膜办法种类很多,比如电镀、喷镀、化学镀、扩散度以及轧压、包镀等。其中不少镀膜工艺已为人们掌握,并在生产中发挥了显著作用。但是,已有的镀膜工艺跟不上产品日新月异的发展,从而促使人们...
2026/7/74 -
磁控溅射镀膜膜厚均匀性设计方法
磁控溅射镀膜是现代工业中的技术之一,磁控溅射镀膜技术正广泛应用于透明导电膜、光学膜、超硬膜、抗腐蚀膜、磁性膜、增透膜、减反膜以及各种装饰膜,在国防和国民经济生产中的作用和地位日益。镀膜工艺中的薄膜厚度...
2026/7/74 -
磁控溅射镀膜技术新进展及发展趋势预测
辉光等离子体溅射的基本过程是负极的靶材在位于其上的辉光等离子体中的载能离子作用下,靶材原子从靶材溅射出来,然后在衬底上凝聚形成薄膜;在此过程中靶材表面同时发射二次电子,这些电子在保持等离子体稳定存在方...
2026/7/73 -
PVD镀钛新技术
PVD(物理):PVD(PhysicalVaporDeposition),指利用物理过程实现物质转移,将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐...
2026/7/73 -
磁控溅射铁磁性靶材的主要方法
由于磁控溅射铁磁性靶材的难点是靶材表面的磁场达不到正常磁控溅射时要求的磁场强度,因此解决的思路是增加铁磁性靶材表面剩磁的强度,以达到正常溅射工作对靶材表面磁场大小的要求。实现的途径主要有以下几种:a、...
2026/7/719 -
PVD前清洗
清洗是通过化学或(及)物理的方法将工件上的油污、锈迹、灰尘等去除干净,确保工件获得较好的涂层结合力和生产的顺利进行。清洗是PVD涂层前的一道工序,也是PVD涂层生产中*重要的工艺,清洗出了问题,涂层生...
2026/7/73 -
热等静压炉的应用
等静压:等静压处理是把被加工物体放置于盛满液体的密闭容器中,通过增压系统进行逐步加压对物体的各个表面施加以相等的压力,使其在不改变外观形状的情况下缩小分子间的距离增大密度而改善物质的物理性质。热等静压...
2026/7/74 -
辉光放电与等离子体
1、辉光放电通常把在电场作用下气体被击穿而导电的物理现象称之为气体放电。气体放电有“辉光放电”和“弧光放电”两种形式。辉光放电又分为“正常辉光放电”与“异常辉光放电”两种,它们是磁控溅射镀膜工艺过程中...
2026/7/74 -
PVD真空镀膜技术及其在模具行业中的应用
PVD真空镀膜技术介绍PVD是英文PhysicalVaporDeposition(物理气相沉积)的缩写,是指在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都...
2026/7/73 -
磁控溅射靶材的分类及应用
当你在智能手机或平板电脑,用手指轻轻一划,就会出现各种页面,这就是屏幕上一种透明导电薄膜的功劳。用于生产透明导电薄膜的磁控溅射靶材是众多溅射靶材中发展*为迅速且应用较广的一种靶材,目前广泛应用于平板显...
2026/7/73 -
等离子表面处理应用领域
等离子又名电浆,是由带正电的正粒子、负粒子(其中包括正离子,负离子、电子、自由基和各类活性基团等)组成的集合体,其中正电荷和负电荷电量相等故称等离子体,是除固态、液态、气态之外物质存在的第四态—等离子...
2026/7/71 -
溅镀工艺的概念及分类
溅镀,通常指的是磁控溅镀,属于高速低温溅镀法。该工艺要求真空度在1×10-3Torr左右,即1.3×10-3Pa的真空状态充入惰性气体氩气(Ar),并在塑胶基材(阳极)和金属靶材(阴极)之间加上高压直...
2026/7/72
